Автор: Владимир Астахов
Издательство: МИСиС
Жанр: Техническая литература
isbn:
isbn: 2007
В практикуме рассматриваются принципы расчета режимов термического окисления, обеспечивающего заданную толщину маскирующей оксидной пленки, и режимов диффузии при формировании легированных слоев с заданными параметрами для кремниевых приборных структур. Излагается методика расчетов в программе Math Cad 2001.